Verfahren zur Einarbeitung von Temperierhohlstrukturen in ein Substrat, insbesondere in ein Substrat für ein Optisches Element für eine Euv-Projektionsbelichtungsanlage sowie Bearbeitungssystem Hierfür, Verfahren und Substrat zur Herstellung eines Optischen Elements, Optisches Element sowie Anlage der Halbleitertechnologie und Strukturiertes Elektronisches Bauteil
WO2024256202
Art A1
19. Dezember 2024
Anmelder: CARL ZEISS SMT GMBH 🇩🇪
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2024256202
- Aktenzeichen
- EP24730973
- Anmeldetag
- 3. Juni 2024
- Veröffentlichung
- 19. Dezember 2024
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C03C15/00C03C17/34C03C23/00B23K26/55B23K26/53
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- CARL ZEISS SMT GMBH
- Land
- 🇩🇪 Deutschland
🇩🇪
Carl Zeiss SMT
Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.
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