Electron beam application device and time constant measurement method

WO2024257200 Art A1 19. Dezember 2024

Anmelder: HITACHI HIGH-TECH CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2024257200
Aktenzeichen: EP23941509
Anmeldetag: 13. Juni 2023
Veröffentlichung: 19. Dezember 2024
Rechtsraum: WO
IPC: G01R31/305G01R31/28

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: HITACHI HIGH-TECH CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi High-Tech Corporation

Japanisches Unternehmen der Hitachi-Gruppe, spezialisiert auf Analysegeräte, medizinische Diagnostik und Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie.

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Fachgebiete

Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik

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