Defect inspection device and optical system

WO2024257319 Art A1 19. Dezember 2024

Anmelder: HITACHI HIGH-TECH CORPORATION, NIKON CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2024257319
Aktenzeichen: EP23941621
Anmeldetag: 15. Juni 2023
Veröffentlichung: 19. Dezember 2024
Rechtsraum: WO
IPC: G01N21/956G01B11/06G02B5/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: HITACHI HIGH-TECH CORPORATION
NIKON CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi High-Tech Corporation

Japanisches Unternehmen der Hitachi-Gruppe, spezialisiert auf Analysegeräte, medizinische Diagnostik und Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie.

3.840 Patente in unserer Datenbank

🇯🇵 Nikon

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio. Nikon entwickelt optische Geräte und Präzisionstechnik, darunter Kameras, Objektive, Mikroskope sowie Lithografie- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung.

3.320 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik

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