Radiation treatment system, and control device and control method for radiation treatment system
WO2024257385
Art A1
19. Dezember 2024
Anmelder: HITACHI HIGH-TECH CORPORATION 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2024257385
- Aktenzeichen
- EP24823009
- Anmeldetag
- 29. Januar 2024
- Veröffentlichung
- 19. Dezember 2024
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- A61N5/10
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- HITACHI HIGH-TECH CORPORATION
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Hitachi High-Tech Corporation
Japanisches Unternehmen der Hitachi-Gruppe, spezialisiert auf Analysegeräte, medizinische Diagnostik und Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie.
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