Photoresist and method of forming the same, nanoimprinting method

WO2024258344 Art A1 19. Dezember 2024

Anmelder: AGENCY FOR SCIENCE, TECHNOLOGY AND RESEARCH, NATIONAL UNIVERSITY OF SINGAPORE 🇸🇬

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2024258344
Aktenzeichen: EP24823809
Anmeldetag: 27. Mai 2024
Veröffentlichung: 19. Dezember 2024
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/00G03F7/004C08L33/12C08L33/16C08K3/22

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: AGENCY FOR SCIENCE, TECHNOLOGY AND RESEARCH
NATIONAL UNIVERSITY OF SINGAPORE
Land: 🇸🇬 Singapur

🇸🇬 Agency for Science, Technology and Research

Staatliche Forschungsorganisation Singapurs (bekannt als A*STAR), zuständig für angewandte Forschung in Biomedizin, Physik und Ingenieurwissenschaften. Fördert Technologietransfer zwischen Wissenschaft und Industrie.

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🇸🇬 National University of Singapore

Staatliche Universität in Singapur, eine der größten und international bestbewerteten Hochschulen Asiens. Sie ist in Forschung und Lehre breit aufgestellt, mit starken Ingenieur- und Naturwissenschaftsfakultäten.

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Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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