Nested-Loop Plasma Enhanced Atomic Layer Deposition

WO2024258486 Art A1 19. Dezember 2024

Anmelder: APPLIED MATERIALS, INC. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2024258486
Aktenzeichen: EP24823856
Anmeldetag: 18. April 2024
Veröffentlichung: 19. Dezember 2024
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/02C23C16/04C23C16/40C23C16/455C23C16/56

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: APPLIED MATERIALS, INC.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von