Radiation-sensitive composition, pattern formation method, and onium salt compound

WO2024262245 Art A1 26. Dezember 2024

Anmelder: JSR CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2024262245
Aktenzeichen: EP24825652
Anmeldetag: 24. Mai 2024
Veröffentlichung: 26. Dezember 2024
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/004C07C317/10C07C317/12C07C317/14C07C317/18C07C317/44C07C381/12C07D307/00C07D307/33C07D317/08C07D317/72C07D321/10C07D327/06C07D333/16C07D493/18C08F2/06C08F220/18G03F7/20G03F7/038G03F7/039

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Abstract

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Firma: JSR CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik Organische Chemie

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