Valve and leak detection method

WO2024262361 Art A1 26. Dezember 2024

Anmelder: TOKYO ELECTRON LIMITED, FUJIKIN INCORPORATED 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2024262361
Aktenzeichen: EP24825766
Anmeldetag: 10. Juni 2024
Veröffentlichung: 26. Dezember 2024
Rechtsraum: WO
IPC: F16K37/00

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firmen: TOKYO ELECTRON LIMITED
FUJIKIN INCORPORATED
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

6.253 Patente in unserer Datenbank

🇯🇵 Fujikin

Der Anmelder ist ein japanischer Hersteller von Fluidsteuerungs- und Ventiltechnik für die Halbleiterfertigung. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Maschinenelemente und Fluidtechnik sowie auf Steuerungs- und Regelungstechnik und Messtechnik. Anmeldungen laufen seit dem Jahr 2000 durchgehend fort.

452 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Maschinenelemente & Fluidtechnik

Vertreten von