Reduced strain and stop layer for si/sige epi stacks

WO2024263524 Art A1 26. Dezember 2024

Anmelder: APPLIED MATERIALS, INC. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2024263524
Aktenzeichen: EP24826509
Anmeldetag: 17. Juni 2024
Veröffentlichung: 26. Dezember 2024
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/02H01L21/3105H01L21/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: APPLIED MATERIALS, INC.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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