Polykristalliner Siliciumcarbidträger für ein Substrat zur Aufnahme von Leistungshalbleiterbauelementen und Substrat mit Solch einem Träger

WO2025002734 Art A1 2. Januar 2025

Anmelder: SOITEC 🇫🇷

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2025002734
Aktenzeichen
EP24731002
Anmeldetag
4. Juni 2024
Veröffentlichung
2. Januar 2025
Rechtsraum
WO
IPC
H01L21/02H01L21/762
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
SOITEC
Land
🇫🇷 Frankreich
🇫🇷 Soitec

Französischer Halbleiterhersteller mit Sitz in Bernin, spezialisiert auf Silicon-on-Insulator (SOI) Substrate. Patente decken Halbleitermaterialien und Waferbondtechnik ab.

801 Patente in unserer Datenbank

Vertreten von

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen