Method for controlling an optical module, optical module and control circuit for an assembly of a projection exposure apparatus for semiconductor lithography

WO2025002743 Art A1 2. Januar 2025

Anmelder: CARL ZEISS SMT GMBH 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2025002743
Aktenzeichen: EP24731929
Anmeldetag: 6. Juni 2024
Veröffentlichung: 2. Januar 2025
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/00H02N2/06

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: CARL ZEISS SMT GMBH
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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Fachgebiete

Elektrische Energietechnik Optik & Fototechnik

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