Verfahren zur Herstellung eines Donorsubstrats zur Übertragung einer Piezoelektrischen Schicht auf ein Trägersubstrat
WO2025003091
Art A1
2. Januar 2025
Anmelder: SOITEC 🇫🇷
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2025003091
- Aktenzeichen
- EP24733990
- Anmeldetag
- 25. Juni 2024
- Veröffentlichung
- 2. Januar 2025
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H10N30/072H10N30/073H03H3/007
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- SOITEC
- Land
- 🇫🇷 Frankreich
🇫🇷
Soitec
Französischer Halbleiterhersteller mit Sitz in Bernin, spezialisiert auf Silicon-on-Insulator (SOI) Substrate. Patente decken Halbleitermaterialien und Waferbondtechnik ab.
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