Lithography film-forming composition, lithography underlayer film, and resist pattern forming method

WO2025005020 Art A1 2. Januar 2025

Anmelder: MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC., THE SCHOOL CORPORATION KANSAI UNIVERSITY 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2025005020
Aktenzeichen: EP24831881
Anmeldetag: 24. Juni 2024
Veröffentlichung: 2. Januar 2025
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/11C08G79/14

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC.
THE SCHOOL CORPORATION KANSAI UNIVERSITY
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Mitsubishi Gas Chemical Company

Japanisches Chemieunternehmen der Mitsubishi-Gruppe mit Fokus auf technische Kunststoffe, Methanol und Spezialchemikalien. Der Konzern beliefert unter anderem die Elektronik- und Verpackungsindustrie.

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Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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