Composition for insulating-film formation, insulating film, electronic device, multilayer object, and method for producing multilayer object

WO2025005134 Art A1 2. Januar 2025

Anmelder: JSR CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2025005134
Aktenzeichen: EP24831993
Anmeldetag: 26. Juni 2024
Veröffentlichung: 2. Januar 2025
Rechtsraum: WO
IPC: C09D4/02C08F20/20C09D5/25C09D7/20C09D7/63

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Farben, Klebstoffe & Brennstoffe Kunststoff- & Polymertechnik

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