Aqueous silicic acid solution for undercoat for photocatalyst film, photocatalyst coating liquid, and member

WO2025005164 Art A1 2. Januar 2025

Anmelder: SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2025005164
Aktenzeichen: EP24832023
Anmeldetag: 27. Juni 2024
Veröffentlichung: 2. Januar 2025
Rechtsraum: WO
IPC: C09D1/02B01J35/39C09D7/61C09D7/63

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Shin-Etsu Chemical

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.

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Fachgebiete

Farben, Klebstoffe & Brennstoffe Verfahrens- & Trenntechnik

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