Plasma reaction apparatus, method for processing process gas by using same, and semiconductor process equipment having same

WO2025005594 Art A1 2. Januar 2025

Anmelder: KOREA INSTITUTE OF MACHINERY&MATERIALS 🇰🇷

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2025005594
Aktenzeichen: EP24832373
Anmeldetag: 21. Juni 2024
Veröffentlichung: 2. Januar 2025
Rechtsraum: WO
IPC: H01J37/32

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: KOREA INSTITUTE OF MACHINERY&MATERIALS
Land: 🇰🇷 Südkorea

🇰🇷 Korea Institute of Machinery & Materials

Das Korea Institute of Machinery & Materials ist ein staatliches südkoreanisches Forschungsinstitut für Maschinenbau und Werkstofftechnik. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Werkzeug-, Fertigungs- und Drucktechnik sowie Halbleiter und elektrische Bauelemente, ergänzt durch Verfahrenstechnik und Messtechnik. Anmeldungen erstrecken sich von 2000 bis 2025.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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