Dust removal device for air supply and exhaust pipe main pipeline of ivc rack
WO2025007501
Art A1
9. Januar 2025
Anmelder: SHENZHEN INSTITUTES OF ADVANCED TECHNOLOGY CHINESE 🇨🇳
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2025007501
- Aktenzeichen
- EP23944222
- Anmeldetag
- 9. Dezember 2023
- Veröffentlichung
- 9. Januar 2025
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- B08B9/043
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- SHENZHEN INSTITUTES OF ADVANCED TECHNOLOGY CHINESE
- Land
- 🇨🇳 China
🇨🇳
Shenzhen Institutes of Advanced Technology
Chinesisches Forschungsinstitut in Shenzhen unter der Chinesischen Akademie der Wissenschaften mit Schwerpunkten in Robotik, Biomedizintechnik und neuen Materialien.
2.775 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Kein Vertreter erfasst.