Semiconductor substrate manufacturing method and reversal pattern forming material

WO2025009380 Art A1 9. Januar 2025

Anmelder: JSR CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2025009380
Aktenzeichen: EP24835894
Anmeldetag: 18. Juni 2024
Veröffentlichung: 9. Januar 2025
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/40G03F7/004G03F7/20H01L21/3065

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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