Radiation-sensitive composition, resist pattern formation method, polymer and method for producing same, and compound

WO2025009429 Art A1 9. Januar 2025

Anmelder: JSR CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2025009429
Aktenzeichen: EP24835942
Anmeldetag: 24. Juni 2024
Veröffentlichung: 9. Januar 2025
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/039C08F2/44C08F20/00C08F212/06C08F220/18G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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