Manufacturing method for optical semiconductor device and design method for low reflectance film
WO2025013255
Art A1
16. Januar 2025
Anmelder: MITSUBISHI ELECTRIC CORPORATION 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2025013255
- Aktenzeichen
- EP23945129
- Anmeldetag
- 12. Juli 2023
- Veröffentlichung
- 16. Januar 2025
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01S5/028
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- MITSUBISHI ELECTRIC CORPORATION
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Mitsubishi Electric
Japanisches Unternehmen, das Elektro- und Elektroniktechnik entwickelt und herstellt, darunter Automatisierung, Energie-, Klima- und Fahrzeugtechnik.
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