Semiconductor processing chamber component with a laser glazed metal oxide intermediate layer
WO2025014776
Art A1
16. Januar 2025
Anmelder: LAM RESEARCH CORPORATION 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2025014776
- Aktenzeichen
- EP24840315
- Anmeldetag
- 3. Juli 2024
- Veröffentlichung
- 16. Januar 2025
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/67H01L21/683H01J37/32
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- LAM RESEARCH CORPORATION
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Lam Research
US-amerikanischer Hersteller von Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie mit Sitz in Fremont, Kalifornien, spezialisiert auf Ätz- und Beschichtungssysteme (Deposition) für die Chipproduktion.
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