Fluid handling structure, lithographic apparatus, method of controlling a fluid handling structure, method of controlling a lithographic apparatus and method of manufacturing a semiconductor device

WO2025016613 Art A1 23. Januar 2025

Anmelder: ASML NETHERLANDS B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2025016613
Aktenzeichen: EP24731025
Anmeldetag: 7. Juni 2024
Veröffentlichung: 23. Januar 2025
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML NETHERLANDS B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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