Dünnschichten aus Silizium hergestellt durch Cvd mittels Flüssigsilanen mit Einstellbarem Kohlenstoffgehalt

WO2025016981 Art A1 23. Januar 2025

Anmelder: FORSCHUNGSZENTRUM JÜLICH GMBH 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2025016981
Aktenzeichen: EP24745909
Anmeldetag: 15. Juli 2024
Veröffentlichung: 23. Januar 2025
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: FORSCHUNGSZENTRUM JÜLICH GMBH
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Forschungszentrum Jülich

Deutsche Großforschungseinrichtung der Helmholtz-Gemeinschaft mit Sitz in Jülich, gegründet 1956. Forschungsschwerpunkte sind Energie, Information und Gehirnforschung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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