Manufacturing apparatus and method for manufacturing oxide semiconductor layer
WO2025017415
Art A1
23. Januar 2025
Anmelder: SEMICONDUCTOR ENERGY LABORATORY CO., LTD. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2025017415
- Aktenzeichen
- EP24842513
- Anmeldetag
- 8. Juli 2024
- Veröffentlichung
- 23. Januar 2025
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/205C23C14/08C23C14/34C23C16/40C23C16/455H01L21/203H01L21/265H01L21/477
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- SEMICONDUCTOR ENERGY LABORATORY CO., LTD.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Semiconductor Energy Laboratory
Japanisches Forschungsunternehmen mit Sitz in Atsugi. Semiconductor Energy Laboratory (SEL) forscht an Halbleitertechnologien, Flüssigkristall- und OLED-Displays sowie Dünnschichttransistoren.
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