Method for manufacturing gas adsorption base material, gas adsorption method, and gas adsorption base material
WO2025018113
Art A1
23. Januar 2025
Anmelder: NICHIAS CORPORATION 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2025018113
- Aktenzeichen
- EP24842908
- Anmeldetag
- 26. Juni 2024
- Veröffentlichung
- 23. Januar 2025
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- B01J20/30B01J20/18C01B39/38
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- NICHIAS CORPORATION
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Nichias
Nichias ist ein japanischer Hersteller von Dämm-, Dichtungs- und Industriematerialien mit Sitz in Tokio. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Maschinenelemente und Fluidtechnik sowie anorganische Chemie und Werkstoffe, ergänzt durch Energie- und Antriebstechnik. Anmeldungen laufen durchgehend seit 2000.
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