Selective etching between silicon-and-germanium-containing materials with varying germanium concentrations

WO2025019031 Art A1 23. Januar 2025

Anmelder: APPLIED MATERIALS, INC. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2025019031
Aktenzeichen: EP23946046
Anmeldetag: 27. Dezember 2023
Veröffentlichung: 23. Januar 2025
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/3065H01L21/311H01L21/02H01L21/67

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: APPLIED MATERIALS, INC.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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