In-situ cleaning of dry-etched semiconductor mesas for overgrown structures
WO2025019946
Art A1
30. Januar 2025
Anmelder: NATIONAL RESEARCH COUNCIL OF CANADA 🇨🇦
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2025019946
- Aktenzeichen
- EP24844150
- Anmeldetag
- 24. Juli 2024
- Veröffentlichung
- 30. Januar 2025
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/02
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- NATIONAL RESEARCH COUNCIL OF CANADA
- Land
- 🇨🇦 Kanada
🇨🇦
National Research Council of Canada
Staatliche kanadische Forschungsorganisation mit Sitz in Ottawa, die angewandte Forschung und Entwicklung in zahlreichen Technologiefeldern betreibt.
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