System and method for cleaning a portion of a lithography apparatus such as clamp reticle contact areas

WO2025021450 Art A1 30. Januar 2025

Anmelder: ASML NETHERLANDS B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2025021450
Aktenzeichen: EP24736838
Anmeldetag: 3. Juli 2024
Veröffentlichung: 30. Januar 2025
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML NETHERLANDS B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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