Method for producing diamond substrate

WO2025023162 Art A1 30. Januar 2025

Anmelder: Shin-Etsu Polymer Co., Ltd., SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD., National University Corporation Saitama University 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2025023162
Aktenzeichen: EP24845539
Anmeldetag: 19. Juli 2024
Veröffentlichung: 30. Januar 2025
Rechtsraum: WO
IPC: C30B29/04C01B32/28C30B33/04

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: Shin-Etsu Polymer Co., Ltd.
SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.
National University Corporation Saitama University
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Shin-Etsu Chemical

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.

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Fachgebiete

Anorganische Chemie & Werkstoffe Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von