Exposure method and method for manufacturing electronic device

WO2025027764 Art A1 6. Februar 2025

Anmelder: GIGAPHOTON INC. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2025027764
Aktenzeichen
EP23947562
Anmeldetag
31. Juli 2023
Veröffentlichung
6. Februar 2025
Rechtsraum
WO
IPC
G03F7/20
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
GIGAPHOTON INC.
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Gigaphoton

Gigaphoton ist ein japanischer Hersteller von Excimer-Lasersystemen für die Halbleiterlithografie, ein Gemeinschaftsunternehmen unter Beteiligung von Komatsu. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie Optik und Elektronik. Anmeldungen erstrecken sich von 2001 bis 2023.

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