Beam monitoring method for particle beam therapy system, beam monitoring program, information processing system, and particle beam system
WO2025027917
Art A1
6. Februar 2025
Anmelder: HITACHI HIGH-TECH CORPORATION 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2025027917
- Aktenzeichen
- EP24848578
- Anmeldetag
- 5. März 2024
- Veröffentlichung
- 6. Februar 2025
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H05H13/04A61N5/10
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- HITACHI HIGH-TECH CORPORATION
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Hitachi High-Tech Corporation
Japanisches Unternehmen der Hitachi-Gruppe, spezialisiert auf Analysegeräte, medizinische Diagnostik und Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie.
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