Sputtering target and method for producing same

WO2025028472 Art A1 6. Februar 2025

Anmelder: MITSUI MINING&SMELTING CO., LTD. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2025028472
Aktenzeichen: EP24849123
Anmeldetag: 29. Juli 2024
Veröffentlichung: 6. Februar 2025
Rechtsraum: WO
IPC: C23C14/34

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: MITSUI MINING&SMELTING CO., LTD.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Mitsui Mining & Smelting

Japanisches Unternehmen mit Sitz in Tokio, tätig in der Verarbeitung von Nichteisenmetallen sowie der Herstellung von Materialien für die Elektronikindustrie.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik

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