Improved plasma uniformity using a higher frequency signal to power an inner coil and a mixed signal of higher and lower frequency signals to power an outer coil

WO2025029558 Art A1 6. Februar 2025

Anmelder: LAM RESEARCH CORPORATION 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2025029558
Aktenzeichen: EP24849849
Anmeldetag: 24. Juli 2024
Veröffentlichung: 6. Februar 2025
Rechtsraum: WO
IPC: H01J37/32H01L21/683H02N13/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: LAM RESEARCH CORPORATION
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Lam Research

US-amerikanischer Hersteller von Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie mit Sitz in Fremont, Kalifornien, spezialisiert auf Ätz- und Beschichtungssysteme (Deposition) für die Chipproduktion.

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Fachgebiete

Elektrische Energietechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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