Method for generating csamt full-zone apparent resistivity-depth profile
WO2025030734
Art A1
13. Februar 2025
Anmelder: JIANGSU UNIVERSITY 🇨🇳
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2025030734
- Aktenzeichen
- EP23948295
- Anmeldetag
- 14. Dezember 2023
- Veröffentlichung
- 13. Februar 2025
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G01V3/00G01V3/38
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- JIANGSU UNIVERSITY
- Land
- 🇨🇳 China
🇨🇳
Jiangsu University
Die Jiangsu University ist eine chinesische staatliche Universität mit breitem technisch-naturwissenschaftlichem Forschungsprofil. Das Patentportfolio verteilt sich auf Mess- und Prüftechnik, Landwirtschafts- und Nahrungsmitteltechnik sowie Metallurgie und Fertigungstechnik. Anmeldungen sind von 2007 bis in die Gegenwart belegt.
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