Thin film deposition apparatus and thin film deposition method

WO2025031015 Art A1 13. Februar 2025

Anmelder: ACM RESEARCH (SHANGHAI), INC., ACM RESEARCH KOREA CO., LTD., CLEANCHIP TECHNOLOGIES LIMITED 🇨🇳

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2025031015
Aktenzeichen: EP24850667
Anmeldetag: 13. Juni 2024
Veröffentlichung: 13. Februar 2025
Rechtsraum: WO
IPC: C23C16/44C23C16/455C23C16/458C23C16/505C23C16/52C23C16/54

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firmen: ACM RESEARCH (SHANGHAI), INC.
ACM RESEARCH KOREA CO., LTD.
CLEANCHIP TECHNOLOGIES LIMITED
Land: 🇨🇳 China

🇨🇳 ACM Research (Shanghai)

ACM Research (Shanghai) ist die chinesische Tochtergesellschaft des US-notierten Halbleiterausrüsters ACM Research mit Sitz in Shanghai, der Reinigungs- und Beschichtungsanlagen für die Chipfertigung herstellt. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleiter- und elektrische Bauelemente sowie Metallurgie- und Verfahrenstechnik. Die Anmeldungen decken den Zeitraum von 2007 bis 2025 ab.

260 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von