Position detection apparatus, semiconductor device, and method for measuring offset of substrate

WO2025031017 Art A1 13. Februar 2025

Anmelder: CLEANCHIP TECHNOLOGIES LIMITED, ACM RESEARCH (SHANGHAI), INC., ACM RESEARCH KOREA CO., LTD. 🇨🇳

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2025031017
Aktenzeichen
EP24850669
Anmeldetag
13. Juni 2024
Veröffentlichung
13. Februar 2025
Rechtsraum
WO
IPC
H01L21/66
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firmen
CLEANCHIP TECHNOLOGIES LIMITED
ACM RESEARCH (SHANGHAI), INC.
ACM RESEARCH KOREA CO., LTD.
Land
🇨🇳 China
🇨🇳 ACM Research (Shanghai)

ACM Research (Shanghai) ist die chinesische Tochtergesellschaft des US-notierten Halbleiterausrüsters ACM Research mit Sitz in Shanghai, der Reinigungs- und Beschichtungsanlagen für die Chipfertigung herstellt. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleiter- und elektrische Bauelemente sowie Metallurgie- und Verfahrenstechnik. Die Anmeldungen decken den Zeitraum von 2007 bis 2025 ab.

260 Patente in unserer Datenbank

Vertreten von

Kein Vertreter erfasst.

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen