Radiation-sensitive composition, resist pattern formation method, and polymer

WO2025032972 Art A1 13. Februar 2025

Anmelder: JSR CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2025032972
Aktenzeichen: EP24851405
Anmeldetag: 17. Juni 2024
Veröffentlichung: 13. Februar 2025
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/004G03F7/20G03F7/039

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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