Radiation-sensitive composition, method for forming pattern, and onium salt
WO2025033056
Art A1
13. Februar 2025
Anmelder: JSR CORPORATION 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2025033056
- Aktenzeichen
- EP24851486
- Anmeldetag
- 8. Juli 2024
- Veröffentlichung
- 13. Februar 2025
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G03F7/004C07C63/04C07C65/21C07C255/56C07C317/14C07D207/34C07D209/30C07D209/88C07D307/56C07D307/79C07D307/88C07D317/22C07D317/62C07D317/72C07D333/28C07D333/62G03F7/20G03F7/038G03F7/039
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- JSR CORPORATION
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
JSR Corporation
JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.
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