Photosensitive composition, pattern film and method for producing same, display device, optical material, and solid-state imaging element

WO2025033396 Art A1 13. Februar 2025

Anmelder: JSR CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2025033396
Aktenzeichen: EP24851820
Anmeldetag: 6. August 2024
Veröffentlichung: 13. Februar 2025
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/075C08F299/08C08G77/20C08G77/38G02B1/111G03F7/20G03F7/027H10F39/12

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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