Rf sputtering of multiple electrodes with optimized plasma coupling through the implementation of capacitive and inductive components

WO2025034594 Art A1 13. Februar 2025

Anmelder: BÜHLER AG, ADVANCED ENERGY INDUSTRIES, INC. 🇨🇭

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2025034594
Aktenzeichen: EP24852634
Anmeldetag: 2. August 2024
Veröffentlichung: 13. Februar 2025
Rechtsraum: WO
IPC: H01J37/34H01J37/32C23C14/35

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firmen: BÜHLER AG
ADVANCED ENERGY INDUSTRIES, INC.
Land: 🇨🇭 Schweiz

🇨🇭 Bühler

Schweizer Familienunternehmen mit Sitz in Uzwil, tätig in Anlagen- und Maschinenbau für Nahrungsmittelverarbeitung, Mühlentechnik sowie Werkstoffe wie Aluminium-Druckguss und optische Materialien.

642 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von