Radiation-sensitive composition, resist pattern formation method, and polymer

WO2025037476 Art A1 20. Februar 2025

Anmelder: JSR CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2025037476
Aktenzeichen: EP24854067
Anmeldetag: 17. Juni 2024
Veröffentlichung: 20. Februar 2025
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/004C08F212/08C08F222/10C08F222/18C08F222/24G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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