Resist composition, resist pattern forming method, compound, and acid diffusion control agent

WO2025037629 Art A1 20. Februar 2025

Anmelder: TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2025037629
Aktenzeichen: EP24854218
Anmeldetag: 14. August 2024
Veröffentlichung: 20. Februar 2025
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/004C07C25/18C07C65/26C07C69/76C07C69/753C07C233/63C07C311/14C07C381/12C07D333/76G03F7/20G03F7/039

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Ohka Kogyo

Tokyo Ohka Kogyo (TOK) ist ein japanischer Chemiekonzern, der vor allem Fotolacke und Materialien für die Halbleiterfertigung herstellt. Das Portfolio konzentriert sich entsprechend auf Optik und Fototechnik sowie Halbleiter- und Bauelemente-Technik, ergänzt durch Kunststoff- und organische Chemie. Anmeldungen sind von 2000 bis in die Gegenwart belegt.

927 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Optik & Fototechnik Organische Chemie

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