Photolithography method using castellation shaped assist features to form a line-and-space pattern and photomask containing the assist features

WO2025038155 Art A1 20. Februar 2025

Anmelder: SANDISK TECHNOLOGIES, INC. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2025038155
Aktenzeichen: EP24854588
Anmeldetag: 23. Mai 2024
Veröffentlichung: 20. Februar 2025
Rechtsraum: WO
IPC: G03F1/36H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: SANDISK TECHNOLOGIES, INC.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 SanDisk

US-amerikanischer Hersteller von Flash-Speicherprodukten wie SSDs, Speicherkarten und USB-Sticks. Das Unternehmen war zeitweise Teil von Western Digital und agiert seit 2025 wieder eigenständig.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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