Verfahren zur Reduzierung der Auswirkungen von Parasitären Kräften Und/oder Momenten auf die Abbildungsqualität einer Projektionsbelichtungsanlage und Projektionsbelichtungsanlage mit einem Modul

WO2025040459 Art A2 27. Februar 2025

Anmelder: CARL ZEISS SMT GMBH, ASML NETHERLANDS B.V. 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2025040459
Aktenzeichen: EP24754967
Anmeldetag: 8. August 2024
Veröffentlichung: 27. Februar 2025
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: CARL ZEISS SMT GMBH
ASML NETHERLANDS B.V.
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

Vertreten von