Nitride semiconductor epitaxial wafer and method for manufacturing nitride semiconductor epitaxial wafer

WO2025041458 Art A1 27. Februar 2025

Anmelder: SHIN-ETSU HANDOTAI CO., LTD., SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2025041458
Aktenzeichen: EP24856153
Anmeldetag: 5. Juli 2024
Veröffentlichung: 27. Februar 2025
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/205C30B25/02C30B29/38H01L21/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: SHIN-ETSU HANDOTAI CO., LTD.
SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Shin-Etsu Chemical

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von