Semiconductor substrate production method and film-forming composition

WO2025041533 Art A1 27. Februar 2025

Anmelder: JSR CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2025041533
Aktenzeichen: EP24856226
Anmeldetag: 30. Juli 2024
Veröffentlichung: 27. Februar 2025
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/314C09D7/63C09D149/00C09D201/00G03F7/11H01L21/3065

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Farben, Klebstoffe & Brennstoffe Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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