Substratverarbeitungsvorrichtung und Förderverfahren

WO2025041629 Art A1 27. Februar 2025

Anmelder: Tokyo Electron Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2025041629
Aktenzeichen: EP24856320
Anmeldetag: 8. August 2024
Veröffentlichung: 27. Februar 2025
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/677B65G49/07B65G54/02

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Tokyo Electron Limited
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Verpackungs- & Fördertechnik

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