Chuck cleaning device, substrate processing device, and substrate processing method

WO2025041646 Art A1 27. Februar 2025

Anmelder: TOKYO ELECTRON LIMITED 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2025041646
Aktenzeichen: EP24856337
Anmeldetag: 9. August 2024
Veröffentlichung: 27. Februar 2025
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/304B23Q11/00B24B41/06B24B49/12B24B55/06H01L21/683

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: TOKYO ELECTRON LIMITED
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

6.255 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik

Vertreten von