Method for producing purified fluorine-containing gas composition, method for producing semiconductor device, and etching apparatus

WO2025041699 Art A1 27. Februar 2025

Anmelder: CENTRAL GLASS COMPANY, LIMITED 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2025041699
Aktenzeichen: EP24856390
Anmeldetag: 15. August 2024
Veröffentlichung: 27. Februar 2025
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/3065C23F1/12

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: CENTRAL GLASS COMPANY, LIMITED
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Central Glass

Japanisches Unternehmen mit Sitz in Tokio, das Flachglas, Spezialglas sowie Fluorchemikalien für Industrie und Bauwesen herstellt.

1.099 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von

Kein Vertreter erfasst.

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen