Method for manufacturing substrate with antireflection film, and substrate with antireflection film
WO2025041708
Art A1
27. Februar 2025
Anmelder: NISSAN CHEMICAL CORPORATION 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2025041708
- Aktenzeichen
- EP24856398
- Anmeldetag
- 15. August 2024
- Veröffentlichung
- 27. Februar 2025
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G02B1/111C08G77/26
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- NISSAN CHEMICAL CORPORATION
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Nissan Chemical Corporation
Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio, das agrochemische Wirkstoffe, elektronische Materialien sowie Feinchemikalien für die Halbleiterindustrie herstellt. Das Unternehmen wurde 1887 gegründet und hieß bis 2015 Nissan Chemical Industries.
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